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OTF-1200X80-HPV-III是一款高压和高真空开启式管式炉，拥有三个加热区（每个温区可独立控制）。炉管采用镍基合金钢制作，此合金钢管可承受高温高压的环境，可承受Z高温度为1100℃（4Mpa).
OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高温高压管式炉，炉体拥有三个温区。仪器中配有气体控制柜，可使炉管内的气压在升降温过程中保持恒定，特别是对于氧化物的处理，可使炉管内的氧分压保持恒定。炉管采用高温镍基合金钢制作，Z高可耐温1100℃。此款高温高压炉特意设计为氧化物超导线和氧化物陶瓷进行热处理。
OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） （等离子体化学气相沉积）滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探
4路质子混气管式PECVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）， 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。
OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉子实现快速加热和冷却。请点击下图观看炉子的工作原理。
单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL是一款CE认证的可滑动管式炉，配置dia3”x55” 石英管，工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/m。为取得Z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快
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