OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉，此款设备主要包括混气装置，加热炉，基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合，进行脉冲激光蒸发镀膜，而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材，可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。

双温区管式炉系列是通过CE认证的，其Z高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉 可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜.

小型真空管式炉是一款通过CE认证的小型高温管式炉，其炉管采用的是高纯氧化铝刚玉管，加热元件为硅碳棒。仪器本身带有两个真密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截止阀）。控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为+/-1°C，控温方式采用30段程序设置，Z高温度可达到1400℃。

OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高温高压管式炉，其炉管法兰上安装有高压电磁阀和压力传感器，所以当管内气压高于设定值时，电磁阀会自动打开排气，使管内气压达到设定值。其炉管采用镍基合金钢管制作，其尺寸为30mm O.D x 12 mm I.D x 560 mm L。此款可在高压氧环境或惰性气体环境下对样品进行热处理，Z高温度可达1100℃。所以特别是对于超导材料及介电材料的探索研究，

OTF-1200X-VTHPΦ60是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃（在此温度下可承受的压力为5MPa).此款设备适合用水浴法制备材料，也特别适合在高压氧环境下对样品进行热处理。法兰上安装有电磁阀，当炉管内压力高于设定值时，电磁发自动打开排出气体减小管内气压。

OTF-1200X-4-VT-II是通过CE认证的双温区立式管式炉，其炉管直径可制作为100mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下进行吊烧和淬火。炉体下端安装有一移动架以方便与移动。采用PID方式进行温度调节，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1 ℃.