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PECVD管式炉(小型滑动)

简要描述:OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) (等离子体化学气相沉积)滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探

  • 产品型号:OTF-1200X-50S-PE-SL
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-21
  • 访  问  量:4649

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详细介绍

技术参数

特点

  • 与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验 
  • 可以通过炉体滑动达到快速升温和降温
  • 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制 
  • 通过工艺调节来控制化学计量 
  • 可以沉积各种材料,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.

开启式管式炉

  • 输入电源: 208 – 240V AC,功率: 1.2kW
  • zui高工作温度1200°C,小于60分钟
  • 炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维,并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层,可以提高加热效率,反射率及延长仪器的使用寿命(点击文字了解涂层的详细参数)
  • 连续工作温度1100°C
  • 炉管采用高纯石英管:50mmOD x 44mmID x 1000mm L
  • 可设置30段升降温程序,并且带有过热和断偶保护功能
  • 加热区长度:200mm 单温区. 
  • 恒温区2.3" (60mm)  (+/-1°C) @ 1000°C
  • 以下图片显示加热区的温度曲线图         
    (点击图片查看详细资料)

等离子体射频电源

  • 输出功率:          5 -300W 可调 稳定性± 1% 
  • 射频电源频率:          13.56 MHz 稳定性±0.005% 
  • zui大反向功率:      200W 
  • 匹配:  自动      
  • 射频电源电子输出端口:        50 Ω, N型半导体, 阴极
  • 噪音:                      <50 dB. 
  • 冷却:                风冷
  • 电源 :                208-240VAC, 50/60Hz


真空法兰和接头

  • 真空法兰采用 304不锈钢制作. 
  • 左端法兰上安装有 KF-25真空接口,2KF-25快速卸装卡箍,KF-25直角阀,KF-25真空波纹管和1/4软管接头和不锈钢针阀



真空泵

 

  • AC 220V 50 Hz  1/2HP  375W
  • 2 Liter /S 
  • 出气端安装有油雾过滤器(防止油雾扩散到空气中,保护环境和人体健康)
  • 真空度:  10-2 torr


产品尺寸和重量

  • 外形尺寸 1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)
  • 净重: 160kg

质保期

一年质保期,终身维护,(相关耗材除外,如炉管,密封圈等易耗件)

质量认证

CE Certified

 

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