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EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，结合先进的频率测量技术，进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。根据实时速率可以输出PWM模拟量，作为膜厚传感器使用，与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制。
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。
VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪（射频磁控型），配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
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