OTF-1200X_第(6)页-中美合资合肥科晶材料技术有限公司

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4英寸真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ

OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相转变和微结构性能。

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厂商性质：生产厂家
更新日期：2025-02-10

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1200℃单温区可倾斜旋转炉--OTF-1200X-4-R

OTF-1200X-4-R 是一款单温区旋转管式炉，为煅烧无机化合物获得较好的*性而设计。特别对锂离子电池负极材料的制备效果*，可提高导电性。或者应用在粉体材料上涂层，如LiFePO4, LiMnNiO4等材料的研究和开发实验室。

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更新日期：2025-02-10

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5英寸近距离蒸发镀膜炉（CSS）OTF-1200X-RTP-II-5

OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Sublimation）镀膜实验，其镀膜面积可达到5"x5"。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部），Z大升温速率为20ºC/s 。采用PID方式进行温度调节，可设置30段升降温程序。仪器面板上安装有RS485接口，

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1100℃高压炉-OTF-1200X-HP-55

OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉，其炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，Z高压力高达20MPa，Z高温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品，这是一款理想的高温管式炉。

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带有光学窗口的高温高压炉--OTF-1200X-HP-III-W

OTF-1200X-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉，炉管采用高温镍基合金钢制作，可承受的Z高温度为1100℃。两端法兰上都安装有石英窗口，可允许各种波长的光通过整个炉管。所以，此款管式炉特别适合在高温高压的环境下进行光学气体分析实验。

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真空热压炉--OTF-1200X-VHP4

OTF-1200X-VHP4开启式立式炉，标配dia4”石英管真空密封，20T电动压力机。是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具，在5吨压力下可键合多层基片。炉子可以加热到1100 oC并且30段程序控温。带水冷的法兰可使真空度达到10-5Torr（用分子泵）。

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