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OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋转CVD炉。炉体有3个加热区，可提高温度均匀性，同时配有4通道的精密混气系统。此款管式炉设计主要用于电池粉体材料表面包覆或其他粉体材料表面修饰。设备相关论文（点击查看）
OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸双温区回转CVD管，安装有自动送料器和收料罐。自动可定份额地将粉料送入到炉管中，此过程可在气氛保护环境下进行，可实现用连续CVD方法对粉体材料进行包覆和修饰。收料罐可在气氛保护环境下对处理好的粉料进行收集。此款管式炉设计主要是在锂离子电池的阴极材料（如LiFePO3, LiMnNiO3）上包覆导电层，同时也可用CVD方式制备 Si/C 阳极材料。
OTF-1200X-5S是一款CE认证的小型开启式管式炉，其Z高工作温度可以达到1000℃。炉管Φ130mm的高纯石英管。设备配有一对不锈钢密封法兰，可在真空或气氛保护环境下对样品进行热处理。对于控温系统，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1℃。此款管式炉Z多可对4英寸的晶片进行退火。
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉，此款设备主要包括混气装置，加热炉，基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合，进行脉冲激光蒸发镀膜，而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材，可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。
双温区管式炉系列是通过CE认证的，其Z高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉 可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜.
OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉，预热炉（作用为使固体原料蒸发）和德国进口的无油泵。此款PE-CVD对于生长纳米线或用CVD,方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。
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