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OTF-1200X-III-80SL是一款CE认证的三温区可滑动管式炉，配置dia80x94” 石英管和法兰，工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/min。为取得Z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Sublimation）镀膜实验，其镀膜面积可达到5“x5“。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部），Z大升温速率为20ºC/s 。采用PID方式进行温度调节，可设置30段升降温程序。仪器面板上安装有RS485接口，可配用控制
OTF-1200X-4-RTP-SL 是一种快速热处理炉。采用红外灯加热和移动炉体快速冷却，可获得Z快升温速率： 50°C/S 和降温速度：5°C/S
OTF-1200X-4-SF是一款炉管尺寸为100mm，带有滑轨法兰的管式炉，Z高工作温度为1200℃，此款管式炉专为客户自己搭建CVD系统而设计。
OTF-1200X-L12是一款小型开启式管式炉，其Z高工作温度可达到1000℃，炉管可以选用直径为100mm或130mm的石英管，并且可配一套不锈钢密封法兰（上面安装有不锈钢截止阀和通气接口），可在真空或气氛保护环境下对样品进行热处理。控制系统与炉体分开，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1℃。
OTF-1200X-V-H4是一款UL/TUV标准的氢气管式炉，主要设计用于对磁性材料进行氢爆处理或对材料在氢气环境下进行热处理。此款管式炉有5个温区（分别采用独立的的温控系统控制），炉管材料为310不锈钢，尺寸为Φ100mm*1500mm.设备中配有一3M的氢气探测器，当探测到有氢气泄露，将自动关闭氢气进气阀和出气阀，以达到安全。
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