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OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉子实现快速加热和冷却。请点击下图观看炉子的工作原理。
OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁铁推动坩埚移动的管式炉。其炉管直径为50mm,Z高工作温度为1200℃。本公司设计此款管式炉主要是为了在各种气氛环境下用蒸发性沉积方法（DVD）来制取2维薄膜，或对材料进行快速热处理。
OTF-1200X-VTHPΦ60是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃（在此温度下可承受的压力为5MPa).此款设备适合用水浴法制备材料，也特别适合在高压氧环境下对样品进行热处理。法兰上安装有电磁阀，当炉管内压力高于设定值时，电磁发自动打开排出气体减小管内气压。
OTF-1200X-S-VGB5是将本公司的管式炉OTF-1200X-S和循环手套箱VBG-5相结合起来的一款产品。此款产品可允许客户将烧结好的样品直接转移到手套箱中，相反也可将在手套箱中的样品直接转移到管式炉中进行烧结。因为手套箱和管式炉炉管内的气氛环境一样，都是在无水无氧的环境下，所以转移过程中样品不会发生氧化。
OTF-1200X-4-VT-II是通过CE认证的双温区立式管式炉，其炉管直径可制作为100mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下进行吊烧和淬火。炉体下端安装有一移动架以方便与移动。采用PID方式进行温度调节，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1 ℃.
OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式炉，专门针对粉末表面沉积的CVD实验，炉管为高纯石英管，炉管内部嵌有一多孔石英板，石英板的孔径为5-15um.粉末可放在多孔石英板上，气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。
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