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OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4“ 石英管和真空法兰， 它是专为半导体或太阳能电池基片（Z大达3“）的退火而设计，采用10KW红外灯管加热Z快升温速度为 50°C/秒. 30 段温度控制，精度为 +/-1°C. 计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线 。
OTF-1200X-50-SL是一款CE认证的可滑动管式炉，配置外径50x 1000mm石英管，工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/m。为取得Z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到15°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。
OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通过CE认证的双温区可旋转管式炉，此款设备专门针对于材料的混合烧结，特别适用于锂离子电池材料的混合烧结，如 LiFePO4、LiMnNiO4等。设备炉管直径为4“，采用两个温区进行加热可以提供更长的加热区域和恒温区。
OTF-1200X-80-VT 是一款已通过CE认证的可开盖垂直管式气氛炉，能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，石英管尺寸Φ80mm,30段可编程温度控制器，控温精度±1℃。炉体垂直安装在可移动的支架上方便炉管的取放(点击图片查看详情)
OTF-1200X-II系列1200℃双温区管式炉是通过CE认证的双温区管式炉，其Z高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉 可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜。
OTF-1200X-III-SHG是一款通过CE认证的小型3温区管式炉，三个温区都有独立的温控系统，并采用PID30段程序化控温，其控温精度+/- 1 °C。对于在气氛保护或真空环境下对样品进行退火、扩散或烧结OTF-1200X-III-SHG是一款理想的管式炉.
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