等离子镀膜设备

简要描述：等离子镀膜设备是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。

产品型号：VTC-2RF
厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-02-22
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薄膜制备全套设备

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详细介绍

等离子镀膜设备是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。

等离子镀膜设备详细说明

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜

技术参数

输入电源	220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵）
等离子源	一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内 (点击图片查看详细资料）
磁控溅射头	一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,zui大厚度6.35mm 一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头
真空腔体	真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）
载样台	载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm 样品的zui高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ 控温精度+/- 10℃
真空泵	可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统
薄膜测厚仪	一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
外形尺寸
质保和质量认证	一年质保期，终生维护 CE认证
使用注意事项	这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内