等离子镀膜设备主要优势体现

　　等离子镀膜设备主要优势体现：

　　1、AF喷涂设备采用原装德国进口纳米喷头，喷头采用高低压转换雾化设计，使液态分子极精细，且不影响药水效果。

　　2、恒定流量控制系统，保证药水平稳恒定的供流，而非波浪线式供流，解决白雾现象。

　　3、控制喷涂药量，提高药水的雾化能力，使膜层与玻璃能均匀的结合，提高产品喷涂的均匀性，增大膜层表面爽滑度。

　　4、喷嘴运动速度及输送线速度均可调，极大的提高生产效率，满足各种用户需求。

　　5、理论设计产能3000片-4000片/小时。

　　6、采用双等离子处理，镀膜前对工件进行清洁处理，降低工件本身附带的杂质，使玻璃表面与膜层发生附和反应，提高膜层结合的牢固度，提升产品的抗老化以及耐摩擦能力，使镀膜品质更高。

　　表面清洁：对于C,O脏污(有机物)，大气等离子有很强洗净效果（氧化反应)

　　表面活性化：等离子分解分子结合材料、形成OH基=活性效果。

　　表面粗面化：等离子粒子以NM单位破坏表面=粗面效果。

　　特别提示：等离子镀膜设备主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内。