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阐述等离子镀膜设备的使用所具备的优势

更新时间:2017-10-11      点击次数:1250
  等离子镀膜设备是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。

等离子镀膜设备


  等离子镀膜设备优势:
  1、AF喷涂设备采用原装德国进口纳米喷头,喷头采用高低压转换雾化设计,使液态分子极精细,且不影响药水效果;
  2、锇存储器可拆卸:具有密封式结构,可冷冻保存;
  3、理论设计产能3000片-4000片/小时;
  4、喷嘴运动速度及输送线速度均可调,极大的提高生产效率,满足各种用户需求;
  5、控制喷涂药量,提高药水的雾化能力,使膜层与玻璃能均匀的结合,提高产品喷涂的均匀性,增大膜层表面爽滑度;
  6、采用双等离子处理, 镀膜前对工件进行清洁处理, 降低工件本身附带的杂质,使玻璃表面与膜层发生附和反应,提高膜层结合的牢固度,提升产品的抗老化以及耐摩擦能力,使镀膜品质更高;
  7、自动化控制,镀膜时只需设定薄膜厚度,镀膜过程自动完成;
  8、恒定流量控制系统,保证药水平稳恒定的供流,而非波浪线式供流,解决白雾现象;
  9、镀膜时间短:只需几秒钟膜厚就可以达到纳米级;
  10、装有互锁回路:一但 OsO4 气体进入腔体,真空不达标,腔体就无法打开。

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