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当前位置：首页   >  产品中心  >  薄膜制备全套设备  >  双靶磁控溅射仪  >  VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

双靶磁控溅射仪

简要描述：双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。

  • 产品型号：VTC-600-2HD
  • 厂商性质：生产厂家
  • 更新时间：2024-02-22
  • 访  问  量：5243
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仪技术参数

结构

（点击图片查看详细资料）

输入电源
  • 220VAC 50/60Hz, 单相
  • 2000W  (包括泵)

溅射电源
  • 安装有两个溅射电源
  • 直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜
  • 射频（RF）电源：600W，可制作氧化物和金属膜
  • 同时可选配300W的射频电源

磁控溅射头
  • 仪器中安装有2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温
  • 其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
  • 另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材
  • 靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,zui大厚度1.5mm
  •              陶瓷靶：直径为50mm,zui大厚度6mm
  • 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶
  • 溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）

也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售人员

真空腔体
  • 真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作
  • 观察窗口：  100 mm diameter
  • 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易

载样台
  • 载样台尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）
  • 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）
  • 载样台zui高可加热温度为500℃，控温精度为+/- 1.0 °C

气体流量控制器
  • 仪器内部安装有2个质量流量计
  • 量程为：0-200sccm
  • 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

真空泵系统

配有一套分子泵系统（德国制作），采用一键式操作

薄膜测厚仪
  • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å  
  • LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

质保期

一年质保期，终生维护

 

 

 

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