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射频等离子磁控溅射镀膜仪

简要描述:射频等离子磁控溅射镀膜仪是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。

  • 产品型号:VTC-2RF
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-22
  • 访  问  量:3482

详细介绍

   射频等离子磁控溅射镀膜仪是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜


技术参数

输入电源

  • 220VAC 50/60Hz, 单相
  • 800W  (包括真空泵)

等离子源

一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内

(点击图片查看详细资料)

 

磁控溅射头

  • 一个 2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
  • 靶材尺寸: 直径为50mm,zui大厚度6.35mm
  • 一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)
  • 溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)
  • 同时可选配1英寸溅射头

真空腔体

  • 真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高纯石英制作
  • 密封法兰:直径为165 mm .  采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封
  • 一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体
  • 真空度:10-3 Torr (采用双极旋片真空泵)
  •         10-5 torr (采涡旋分子泵)

载样台

  • 载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
  • 载样台尺寸:直径50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋转速度:1 - 20 rpm
  • 样品的zui高加热温度为700℃,(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃
  • 控温精度+/- 10℃

真空泵

可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统

   

薄膜测厚仪

  • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监控薄膜的厚度,分辨率为0.10 ?  
  • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

外形尺寸

              

质保和质量认证

  • 一年质保期,终生维护
  • CE认证

使用注意事项

  • 这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗,可有效减少真空腔体中的氧含量
  • 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内

 

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