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小型磁控射频溅射镀膜仪

简要描述:小型磁控射频溅射镀膜仪是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

  • 产品型号:VTC-1RF
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-22
  • 访  问  量:4457

详细介绍

小型磁控射频溅射镀膜仪是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜

技术参数

输入电源

  • 220VAC 50/60Hz, 单相
  • 800W  (包括真空泵)

等离子源

  • 一个100W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
  • 配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)
  • 可选配300W射频电源(自动匹配)
  • 注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间。
  • (点击图片查看详细资料)

磁控溅射头

  • 一个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
  • 靶材尺寸: 直径为25.4mm,zui大厚度3mm
  • 一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)
  • 溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)
  • 同时可选配2英寸溅射头
  • 选配2英寸溅射头靶材尺寸:直径为50.8mm,zui大厚度6mm  
       

真空腔体

  • 真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高纯石英制作
  • 密封法兰:直径为165 mm .  采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封
  • 一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体
  • 真空度:<1.0*10-2 Torr (采用双极旋片真空泵)
  •          <5*10-5 torr (采涡旋分子泵)

载样台

  • 载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
  • 载样台尺寸:直径50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋转速度:1 - 20 rpm
  • 样品台的zui高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃
  • 控温精度+/- 10℃
  •  

真空泵

可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统

  

薄膜测厚仪

  • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 ?  
  • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
  •  

质保和质量认证

  • 一年质保期,终生维护
  • CE认证

使用注意事项

  • 这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量
  • 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
  •  

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