VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。
技术参数
概念
 | - 5个溅射头安装5种不同材料
- 通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，
- 选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料
- 真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品
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电源 | 单相220 VAC, 50 / 60 Hz |
射频电源
 | - 一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接
- 一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换
- 可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。
- 所有的溅射参数，都可由电脑设置
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直流电源（可选）
 | - 可选购直流电源，来溅射金属靶材
- 可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材
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磁控溅射头 | - 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层
- 可在本公司额外购买射频线
- 电动挡板安装在溅射腔体内
- 设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min
 (1)  (2) (3) (4)
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溅射靶材
 | - 所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,zui大厚度3mm
- 溅射距离: 50 – 80 mm（可调）
- 溅射角度: 0 – 25°（可调）
- 配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用
- 可在本公司购买各种靶材
- 实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）
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真空腔体
 | - 真空腔体采用304不锈钢制作
- 腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)
- 铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口
- 真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）
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样品台
 | - 直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。
- 样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜
- 样品台可以加热，zui高温度可达600℃
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真空泵
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石英振荡测厚仪（可选）
 | 可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 Å（需水冷） |
净重 | 60kg |
质量认证 | CE认证 |
质保 | 一年质保期，终生维护 |
应用注意事项 | - 此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境
- 所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N
- 为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗
- 用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥
- 等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物
- 可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性
- 溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片
- 本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜
- 因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源
- 不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或冷却介质
 
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