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1英寸高真空磁控溅射头--HVMSS-SPC-1-LD

简要描述:HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头,可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,以至于可以溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-21
  • 访  问  量:2462

详细介绍

    HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头,可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,以至于可以溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

 

技术参数

特点

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  • 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
  • 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均强场分布
  • 磁体表面涂有一层保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命
  • 标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配
  • 安装是采用标准真空接头,便于操作
  • 更换靶材较为简单,无需调整溅射头的高度
  • 配有一块铜靶

溅射头

 

(点击图片查看详细资料)

  • 溅射头的直径:46.3mm
  • 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
  • 靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm) 
  • 磁环:NdFeB稀土永磁铁      
  • 杆的直径:      3/4" O.D.

 

所需功率

DC (zui大) 250 W

RF (zui大)100 W

zui大阴极溅射电流

3A

阴极溅射电流

200 - 1,000 V

可选压力范围

~1 mTorr 1 Torr

溅射厚度均匀性图

 

  • 注意:此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜,所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上,实验参数为:
  • 功率:直流150W
  • 真空环境:10mTorr(Ar)
  • 靶材与基片的距离:75mm

水冷却

  • 所需水流量: 1/2 GPM
  • 进水温度:<20 C
  • 水管接头:0.25" O.D快插头

接头

  • 电路连接接头:标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配
  • 本公司会赠送一高真空快速接头
  • 此快速接头的内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1英寸,真空腔体的壁厚不得大于1英寸
     

 

产品长度

14英寸(355.6mm)

产品重量

1.36kg

倾斜装置

  • 溅射头相对于杆zui大可倾斜+/- 45
  • 倾斜装置上有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度

可选配件

  • 循环水冷机,流量为16L / min ,水箱容积为6L
  • 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套,让客户自己搭建磁控溅射仪

质保期

一年质保期终生维护

应用

  • 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,下面是一些应用:
  • 薄膜涂覆
  • 半导体器件
  • 磁记录介质
  • 超导薄膜
  • 量子计算器件
  • MEMS
  • 生物传感器
  • 纳米技术
  • 超晶格
  • 颗粒膜
  • 记忆合金
  • 组合薄膜沉积
  • 光学薄膜

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