OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4" 石英管和真空法兰， 它是专为半导体或太阳能电池基片（Z大达3“）的退火而设计，采用10KW红外灯管加热Z快升温速度为 50°C/秒. 30 段温度控制，精度为 +/-1°C. 计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线 。

OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Sublimation）镀膜实验，其镀膜面积可达到5"x5"。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部），Z大升温速率为20ºC/s 。采用PID方式进行温度调节，可设置30段升降温程序。仪器面板上安装有RS485接口，

OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉，其炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，Z高压力高达20MPa，Z高温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品，这是一款理想的高温管式炉。

12升1700℃高温氢气炉是一款通过CE认证的高温氢气炉，此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火，其Z高温度可高达1700℃。KSL-1700X-H2采用氧化铝纤维作为炉膛材料（炉膛尺寸为8“x 8“x12“），以钼丝作为加热元件，炉体顶部密封板中嵌有冷却水管，以保证仪器工作时的密封性能。对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料（如荧光材料，钛合金等）。

OTF-1200X-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉，炉管采用高温镍基合金钢制作，可承受的Z高温度为1100℃。两端法兰上都安装有石英窗口，可允许各种波长的光通过整个炉管。所以，此款管式炉特别适合在高温高压的环境下进行光学气体分析实验。

OTF-1200X-VHP4开启式立式炉，标配dia4”石英管真空密封，20T电动压力机。是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具，在5吨压力下可键合多层基片。炉子可以加热到1100 oC并且30段程序控温。带水冷的法兰可使真空度达到10-5Torr（用分子泵）。