OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉子实现快速加热和冷却。请点击下图观看炉子的工作原理。

单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL是一款CE认证的可滑动管式炉，配置dia3”x55” 石英管，工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/m。为取得Z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快

OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4“ 石英管和真空法兰， 它是专为半导体或太阳能电池基片（Z大达3“）的退火而设计，采用10KW红外灯管加热Z快升温速度为 50°C/秒. 30 段温度控制，精度为 +/-1°C. 计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线 。

OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通过CE认证的双温区可旋转管式炉，此款设备专门针对于材料的混合烧结，特别适用于锂离子电池材料的混合烧结，如 LiFePO4、LiMnNiO4等。设备炉管直径为4“，采用两个温区进行加热可以提供更长的加热区域和恒温区。

GSL-1100X-6-S 是一款炉管内径为 6“ 的真空管式炉 , 它可以在Z大5“的基片上生长多种薄膜（在不同气氛下）. 该炉的Z高工作温度为 1100°C, 采用30段可编程PID数字温度控制器，温控精度: ±1°C。

GSL-1100X-S是一款已通过CE认证的小口径管式炉（1～2“直径）,是专为制备小样品而设计。Z高温度可达1100℃。标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30段可编程精密温度控制器,可根据不同的客户需求来设定升降温程序。控温精度±1℃。炉体可垂直或水平放置以满足不同的应用,如VSL、CVD 、等淬火试验.