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简要描述:Si+SiO2薄膜
产品分类
晶体产品
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详细介绍
产品名称:
Si+SiO2薄膜
产品简介:
技术参数:
常规晶向:
<100>, <111>,
掺杂类型:
N型掺杂 或者 P型掺杂
制作方法:
干法或湿法
薄膜厚度:
常规厚度300nmSiO2
常规尺寸:
dia4"x0.5mm;dia2"x0.5mm;单面氧化 或者 双面氧化
可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um
标准包装:
1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装
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