Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器，由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期的生瓷带及各种薄膜。

VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。

PTL-SC-6是一款自动连续离子层吸收反应（SIAR）制膜系统，与手动操作相比，避免了实验中的人为误差，因为SIAR制膜法需多次对样品进行重复提拉，所以手动很难控制其提拉的重复性。此款设备采用自动化控制，客户可设置提拉速度、循环次数和时间。 PTL-SC-6拥有6个可程序设置的样品台，可设置浸渍速度、浸渍时间、提取速度，干燥时间以及加热温度（Z高温度可达到80℃）。此款设备专门这对于

OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相转变和微结构性能。

OTF-1500X-VHP4是一款真空热压机，可对材料在真空（或气氛保护）及高温的环境下进行加压，如把粉末压成块状，或将多层晶片压合在一起（扩散实验）。此款仪器Z高温度可达到1500℃，在此温度下可对样品施加的压力为5T。仪器炉体设计为开启式，炉管采用美国进口的莫来石管，模具为石墨模具，加压装置为一20T的电动压机。炉子Z高温度可以达到1500℃，可设置30段升降温程序。

OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁铁推动坩埚移动的管式炉。其炉管直径为50mm,Z高工作温度为1200℃。本公司设计此款管式炉主要是为了在各种气氛环境下用蒸发性沉积方法（DVD）来制取2维薄膜，或对材料进行快速热处理。