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2单靶直流磁控溅射仪--VTC-16-SM

简要描述:VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-22
  • 访  问  量:1841

详细介绍

VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。

用直流磁控溅射仪可获得单相Al

技术参数

输入电压

AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

输入功率

< 2000W 

输出功率

  • 电压:1600VDC
  • zui大电流:150mA 

腔体

石英腔体:167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height


溅射头和样品台

  • 2英寸带水冷磁控溅射头
  • 一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0 - 5 RPM 
  • 配有一手动操作的挡板,包含靶头支撑架

  • 样品台和靶头之间的距离可以调节,调节范围:60-100mm

         (点击图片查看详细资料)

控制面板

6" PLC集成触摸屏控制面板,可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度


附件(可选)

  • 双极旋片真空泵VRD-8KF25接口

  • KF25不锈钢波纹管

  • 10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头  
      

气氛

含一个控制进气的针阀和一个放气阀


靶材

  • 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
  • 适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金属,可选购

可选配件

  • 膜厚监测仪
  • 分子泵,可获得高真空, >10E-5 torr
  • 为获得的薄膜强度,建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。
  • 500度样品加热台         
        

 

体积

    
  ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

净重

20 kg ( not included pump )

质保和证书

  • 一年质保,终生维护
  • CE认证

磁控溅射镀膜知识

与客户分享的磁控溅射镀膜技术,请点击文章链接Plasma Sputter Coating.  

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