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OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等离子体气相沉积)管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。
特征:
1、与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验
2、对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
3、通过工艺调节来控制化学计量
4、能够广泛地用于各种材料沉积,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等.
技术参数
开启式管式炉 |
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等离子体射频电源 |
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真空法兰和接头 |
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真空泵
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产品尺寸和重量 | 外形尺寸:1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 净重: 160 lbs |
可选配置 | 请点击查看下面的混气及气液混合系统
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质保期 | 一年质保期,终生维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件) |
质量认证 | CE Certified |
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