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PECVD管式炉

简要描述:OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等离子体气相沉积)管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。

  • 产品型号:-OTF-1200X-50-PE-S
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-22
  • 访  问  量:6270

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详细介绍

OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等离子体气相沉积)管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD  系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。

 

特征:

1、与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验

2、对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制

3、通过工艺调节来控制化学计量

4、能够广泛地用于各种材料沉积,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等.

 

技术参数

开启式管式炉

  • 输入电源:208 – 240V AC, 1.2kW
  • zui高工作温度1200℃(小于1小时)
  • 连续使用温度1100
  • 采用高纯氧化铝作为炉膛材料,并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层,可延长仪器使用寿命和提高加热效率
  • 高纯石英炉管,尺寸为 50mmOD x 44mmID x  780mmL
  • 可设置30段升降温程序,并带有过热和断偶保护
  • 加热区长度为200mm,恒温区长度为60mm(+/-1°C)

      
                 
    (点击图片查看详细资料)

等离子体射频电源

  • 输出功率: 5 -500W可调
  • 稳定性为+/-1%
  • 射频电源频13.56 MHZ, 稳定性±0.005% 
  • zui大反向功率: 200W max
  • 射频电源电子输出口: 50 Ω, N型半岛体阴极
  • 噪声<50 dB.
  • 冷却方式:空气冷却
  • 输入电源: 208-240VAC, 50/60Hz  
     

真空法兰和接头

  • 真空法兰采用304不锈钢制作
  • 左端法兰上安装有防腐型数字真空计、不锈钢针阀和一个球阀。
  • 右端法兰设计为KF25接口,上面配有泄气阀,挡板阀和两个KF25卡箍
  • 仪器中所配的数字真空计,可以不用因使用气体的不同而进行校正,同时还具有防腐功能(请点击图片查看详细介绍)

      

真空泵

  • AC 220V 50 Hz  1/2HP  375W
  • 2L/s
  • 与本公司管式炉配套使用,可使其真空度达到10-2 torr
  • 进气端带有储气球(防止回油),出气端安装有油雾过滤器(防止油雾扩散到空气中,保护环境和人体健康)
     

产品尺寸和重量

外形尺寸:1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H)

净重: 160 lbs

可选配置

请点击查看下面的混气及气液混合系统

  • 防腐型小型三路浮子混气系统
  • 精密气液混合系统
  • 三路质子混气系统

质保期

一年质保期,终生维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件)

质量认证

CE Certified

 

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