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3靶等离子溅射仪的原理和应用特点

更新时间:2021-07-20      点击次数:736
  3靶等离子溅射仪加热温度为500℃,控制面板为触摸屏模式,可溅射三种靶材,放置直径50mm样品。通过旋转样品台,可以将金靶、银靶和铜靶三种材料依次涂覆在同一样品上,可接真空泵、不锈钢波纹管、kfd25快卸夹。
  3靶等离子溅射仪是紧凑型等离子薄膜溅射仪(直流普通型)。控制面板采用触摸屏方式。基板的极限尺寸为2",放置样品的直径为Ø50mm,加热温度高达500℃,可溅射金、银、铜靶材,但不能轻金属和碳,本机采用旋转样品台,可在同一样品上依次镀三层薄膜,适用于实验室镀膜样品的制备。采用PLC控制面板控制设备,操作方便,该机设备体积小,实验室空间小,操作简单,适用范围广,因此被广泛应用于大专院校和科研院所的实验室。
  1、PLC控制面板,4.3"触摸屏,PID温度控制方式。
  2、可控参数包括真空度、电流、目标位置和基板加热温度。
  3、可配真空泵、不锈钢波纹管kfd25快卸夹。
  4、已通过CE认证。
  3靶等离子溅射仪是基于直流溅射原理的简单、可靠、经济的镀膜设备。该机的特点是在一个真空室中安装了三个靶材,旋转的样品台可以在同一个样品上依次涂布三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导电材料实验电极的制备。

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