3靶等离子溅射仪的原理和应用特点

　　3靶等离子溅射仪加热温度为500℃，控制面板为触摸屏模式，可溅射三种靶材，放置直径50mm样品。通过旋转样品台，可以将金靶、银靶和铜靶三种材料依次涂覆在同一样品上，可接真空泵、不锈钢波纹管、kfd25快卸夹。

　　3靶等离子溅射仪是紧凑型等离子薄膜溅射仪（直流普通型）。控制面板采用触摸屏方式。基板的极限尺寸为2"，放置样品的直径为Ø50mm，加热温度高达500℃，可溅射金、银、铜靶材，但不能轻金属和碳，本机采用旋转样品台，可在同一样品上依次镀三层薄膜，适用于实验室镀膜样品的制备。采用PLC控制面板控制设备，操作方便，该机设备体积小，实验室空间小，操作简单，适用范围广，因此被广泛应用于大专院校和科研院所的实验室。

　　1、PLC控制面板，4.3"触摸屏，PID温度控制方式。

　　2、可控参数包括真空度、电流、目标位置和基板加热温度。

　　3、可配真空泵、不锈钢波纹管kfd25快卸夹。

　　4、已通过CE认证。

　　3靶等离子溅射仪是基于直流溅射原理的简单、可靠、经济的镀膜设备。该机的特点是在一个真空室中安装了三个靶材，旋转的样品台可以在同一个样品上依次涂布三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导电材料实验电极的制备。