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从双靶磁控溅射仪的原理到使用,这篇文章会让你有个充分了解

更新时间:2021-04-20      点击次数:1014
  双靶磁控溅射仪主要由陶瓷靶/电解液制备部分,电极膜沉积系统和惰性气氛手套箱组成,主要组件包括有机/金属源蒸发沉积室,真空排气系统和真空测量系统,蒸发源,样品加热温度控制,电气控制系统,气体分配系统,高温烧结炉,手套箱等零件。通过采用其中真空沉积室被手套箱包裹的结构模型,将热蒸发沉积室放置在手套箱中。在水和氧气≤1PPM的气氛中,可以更方便地完成:更换样品,更换蒸发材料,连续制备锂和金属薄膜,陶瓷烧结和电池包装;沉积室也可以通过过渡室取出。由于保护了惰性气氛,因此在实验中可以提高高质量薄膜制备和包装的效率。
  双靶磁控溅射仪是一种新开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜,导电薄膜,合金薄膜,半导体薄膜,陶瓷薄膜,介电薄膜,光学薄膜和氧化物薄膜,硬膜,聚四氟乙烯膜等。与同类设备相比,不仅用途广泛,而且具有体积小,操作简便的优点。它是用于实验室制备材料薄膜的理想设备。配备有两个靶枪,一个是辅助射频电源,用于非导电靶的溅射镀膜,另一个是辅助直流电源,用于对导电材料的溅射镀膜;它可以制备各种薄膜,具有广泛的应用范围;体积小,操作简单。
  1、真空室具有前后门双开结构,便于设备维护以及实验样品的安装和更换,已安装一个具有自传功能的样品台。真空室的组件,包括蒸发源,分子泵吸气口,真空测试探针和膜厚测试探针,都具有合理的布局。真空室的真空度可以达到10-5Pa,关闭12小时后泄漏率小于或等于5Pa。
  2、有4套蒸发源,包括2套束流源炉和2套钨丝加热蒸发舟。蒸发温度的控制精度为±1℃。蒸发源采用全封闭结构,*消除了交叉污染。
  3、溅射方法包括射频和直流:自动阻抗匹配可以在射频模式下完成;直流电源功率为2kw。
  4、样品台具有旋转,提升和加热的功能,并具有在线更换面罩的功能,并且面罩可以无间隙地粘合到样品上。样品台可以同时加载四个样品,每个样品都有一个独立的挡板,并且可以通过操纵器在线控制开关。
  5、样品加热系统配备了精度为±1℃的样品加热电源。
  6、膜厚测试组件可以实现膜厚的原位检测。
  7、双靶磁控溅射仪具有水压检测,缺相保护和误操作保护等功能。
  8、手套箱部件可以达到的水和氧气值小于1ppm。
  9、内置手套箱高温炉,炉体尺寸为15*15*15cm,高温度可达1400℃。

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