等离子镀膜设备真是一款物美价廉的实验帮手

　　等离子镀膜设备是一种基于直流辉光放电的镀膜设备，它采用了一种新的四氧化PCVD方法来获得薄膜。它不同于传统的溅射和蒸发，解决了薄膜的颗粒和热损伤问题。它可用于在SEM和FE-SEM样品上涂覆导电膜或在TEM样品上涂覆支撑膜。涂层的厚度范围从几纳米到几百纳米，甚至小于1纳米。
 

　　1.自动控制，只需要设定涂膜厚度，涂装过程即可自动完成。

　　2.记忆存储器可以拆卸：具有密封结构，可以冷冻保存。

　　3.涂覆时间短：薄膜厚度仅需几秒钟即可达到纳米级。

　　4.配备互锁电路：一旦OsO4气体进入腔体，如果真空度达不到标准，则无法打开腔体。

　　5.无颗粒：由OPC沉积的导电金属膜是*非晶态的。

　　6.等离子镀膜设备的film膜均匀度很高。

　　7.无热损伤：与热蒸发和离子溅射相比，OPC对样品无热损伤。

　　8，无电子损伤：膜硬度高，熔点高，不会受到强电子束的破坏。

　　9.无污染：样品在阴极，仅在阳离子表面，可确保无污染。

　　等离子镀膜设备是小型RF等离子磁控溅射镀膜仪器系统。该系统包括所有必要的附件，例如300W（13.5mhz）射频电源，2英寸磁控溅射头，石英真空室，真空泵和温度控制器。对于某些金属膜和非金属膜的生产，是一款物美价廉的实验帮手。