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等离子镀膜设备真是一款物美价廉的实验帮手

更新时间:2020-07-27      点击次数:993
  等离子镀膜设备是一种基于直流辉光放电的镀膜设备,它采用了一种新的四氧化PCVD方法来获得薄膜。它不同于传统的溅射和蒸发,解决了薄膜的颗粒和热损伤问题。它可用于在SEM和FE-SEM样品上涂覆导电膜或在TEM样品上涂覆支撑膜。涂层的厚度范围从几纳米到几百纳米,甚至小于1纳米。
 

等离子镀膜设备

  1.自动控制,只需要设定涂膜厚度,涂装过程即可自动完成。
  2.记忆存储器可以拆卸:具有密封结构,可以冷冻保存。
  3.涂覆时间短:薄膜厚度仅需几秒钟即可达到纳米级。
  4.配备互锁电路:一旦OsO4气体进入腔体,如果真空度达不到标准,则无法打开腔体。
  5.无颗粒:由OPC沉积的导电金属膜是*非晶态的。
  6.等离子镀膜设备的film膜均匀度很高。
  7.无热损伤:与热蒸发和离子溅射相比,OPC对样品无热损伤。
  8,无电子损伤:膜硬度高,熔点高,不会受到强电子束的破坏。
  9.无污染:样品在阴极,仅在阳离子表面,可确保无污染。
  等离子镀膜设备是小型RF等离子磁控溅射镀膜仪器系统。该系统包括所有必要的附件,例如300W(13.5mhz)射频电源,2英寸磁控溅射头,石英真空室,真空泵和温度控制器。对于某些金属膜和非金属膜的生产,是一款物美价廉的实验帮手。
 

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