双温区管式炉温度数据保存功能十分智能

　　双温区管式炉是CE认证的管式炉，温度可达1200℃，通过调节两个温度区的温度控制程序，炉管内的温度场可以形成温度梯度。两个温度区由两个独立的温度控制系统控制，并且两个温度区均已编程为温度控制。该系列管式炉可用于生长纳米材料并通过CVD制备各种薄膜。
 

　　双温区管式炉是目前的常用产品。它以硅钼棒为发热元件，采用双层壳体结构和温度控制仪，可进行30段程序温度控制，移相触发和硅控控制。该炉由氧化铝多晶纤维材料制成。炉管的两端用不锈钢法兰密封。不锈钢法兰配有空气喷嘴，阀门和压力表，抽真空时可抽真空，达到10-3pa，具有温度场均衡，表面温度低，升温降速快，节能等优点。是大学，科研院所，工矿企业进行高温气氛烧结，气氛还原，CVD实验和真空退火的理想产品。

　　双温区管式炉中使用的硅钼棒的厚度为7mm，加热端较厚，不易弯曲，棒的表面负荷低，使用寿命长。而且，杆表面上的无定形氧化物膜致密，可以很好地保护杆。此外，管式炉还配备了通信接口和软件，可以通过计算机直接控制炉的各种参数，并且可以从计算机观察炉上的PV和SV温度值以及仪器的操作。炉子的实际温升曲线将通过计算机实时绘制，并且可以保存每次的温度数据，可以随时调用。这是非常智能和方便的。该炉材料具有热容量低，导热系数低，散热少，保温性好，反射率高，温度场平衡等特点。具有耐高温，抗热胀冷缩性强，不易燃烧的特点。容易去除粉末。