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高通量薄膜制备技术研发

更新时间:2021-04-15      点击次数:814
  材料对于推动生产力发展和社会进步起着举足轻重的作用。关键材料的研发周期更是直接决定了相关领域的发展进程。随着科技发展,对材料的功能和性能要求越来越高。传统材料研发手段也越来越难以满足现代社会生产发展的需求。以高温超导材料为例,超导转变温度高的材料往往组分结构十分复杂。随着组分增多,获得准确的组分依赖的相图的工作量呈几何级数增长。另外,采用传统的实验手段很难准确合成并重复获得到某个特定的组分,而这往往是研究量子相变,破解高温超导机理的关键。
  材料基因组技术的出现为快速构建准确的材料相图,缩短材料的研发周期带来了希望。组合薄膜制备技术作为材料基因组核心技术之一经历了三个发展阶段,即共磁控溅射技术,阵列掩膜板技术和组合激光分子束外延技术。
  对于连续组分薄膜性质的研究来说,实际的测量位置与样品组分是一一对应的,失去了位置坐标就失去了组分的信息。因此,发展更加准确的高通量薄膜制备和原位表征手段十分必要,并对包括超导材料在内的多个前沿研究领域具有重要的意义。
  VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。

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