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小型蒸镀仪的使用可分为这四个步骤

更新时间:2022-08-26      点击次数:557
  小型蒸镀仪蒸发镀膜包括以下基本工艺:
  
  1、加热蒸发过程:包括将凝相变为气相的过程。每种蒸发物质都有不同的温度饱和蒸气压。
  
  2、气态原子或分子在蒸发源与基板之间的传输,即原子或分子在环境大气中的飞行过程。
  
  3、在基板表面蒸发原子或分子的沉积过程。即蒸发、凝结、成核和核生长,形成连续的薄膜。由于基板温度远低于蒸发源温度,因此气态分子会在基板表面发生从气态到固态的相变过程。
  
  小型蒸镀仪的使用可分为四个步骤,即气相沉积前的准备、气相沉积设备的预热、薄膜的气相沉积和停机。
  
  1、蒸发前的准备工作:
  
  (1)打开充气阀,给钟罩充气,然后提起钟罩;
  
  (2)根据钟罩是否干净,先用酒精清洗钟罩内的零件;
  
  (3)安装钼舟,将铝丝放入钼舟中,将待沉积的基材粘在铝板上;
  
  (4)钟罩下降时,观察钟罩下降时钟罩内是否有物体、杂物。
  
  2、气相沉积仪的预热:
  
  (1)启动机械泵,将钟罩抽出,接低真空测量,直到钟罩内的真空度降至5pa以下;
  
  (2)调节螺杆至10-20Pa,此时可对蒸镀基板材料进行轰击。如果不需要轰击,则直接进行下一步。轰击时间根据需要控制,主要用于处理沉积基板的表面。轰击结束后,将轰击拨盘置零,然后将拨盘的“轰击”档转至“关”档;
  
  (3)将低压阀推至泵送系统。当压力低于5pa时,启动扩散泵,预热40分钟。
  
  3、蒸发膜:
  
  (1)预热后,打开高阀。大约40-60秒后,开启高真空测量(打开灯丝),将低真空测量切换到扩散泵的前级测量。当真空度达到2-3×10-3时,满足蒸发的真空度要求;
  
  (2)打开“工件转动”齿轮,按要求调节“工件转动”的速度(接触调压值20-30);
  
  (3)开启烘烤,调整所需温度,根据实际需要设定烘烤时间。如果不需要烘烤,可以进行下一步气相沉积实验;
  
  (4)选择放置电极的位置,打开“蒸发”齿轮,在相应的电极位置插入“铜绞”,开始加大电流(约180A)溶解蒸发的物质。当发现已经熔化时,挡板会挡住蒸发源。*熔化后,打开挡板,让材料蒸发到基材表面;
  
  (5)蒸发后,所有齿轮应归零。关闭高真空测量,关闭高阀,拔出低阀至“抽出钟罩”位置,停止机械泵,待工件冷却后给钟罩充气,提起钟罩,取出零件,并清洁涂层室。
  
  (6)如需额外蒸发,应更换基板,并给电极(钼舟)充电。
  
  4、关机:
  
  (1)如果小型蒸镀仪蒸发完成,关闭高真空测量,关闭高阀,停止扩散泵,在实验结束时启动机械泵。等待2小时冷却后,将低位阀拉至“钟罩”位置,使钟罩内保持一定的真空度;
  
  (2)关闭气相沉积仪总开关;
  
  (3)先关“进”阀,再关“出”阀(冷却水);
  
  (4)关闭气相沉积仪电源;
  
  (5)关闭主电源。
  
  (6)涂装实验结束后,注意清洗所有零件的原厂零件,退回所有材料,并进行清洁以保持实验室清洁。

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