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  • 2022

    6-10

    真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀...

  • 2022

    6-8

    喷涂一直存在于我们的生活中,长期以来被用于多种用途,包括喷涂装饰性和保护性涂料。因此,它是材料科学家制备薄膜的又一工具。在喷涂中,喷嘴尺寸、喷涂形状、喷嘴到基材的距离、喷涂速度和喷涂过程中基材的加热都是可控的参数,以达到理想效果。使用超声波雾化模块,可使喷雾溶液均质化,雾滴大小得到有效控制(喷嘴频率会影响雾滴大小),可分布微雾量,从而保证成分和结构的均匀性和所得薄膜和图案的准确性。材料浪费保持在低限度,设备操作人员的风险很小。超声波雾化模块的工作原理是利用超声波换能器将高频声...

  • 2022

    5-13

    电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长。磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成...

  • 2022

    5-13

    直流等离子磁控溅射镀膜仪是一种小型直流(DC)等离子磁控溅射镀膜系统,该系统包括所有必需的附件,如500W(600V)直流电源、2英寸磁控溅射头、石英真空室、真空泵和温度控制器。主要由溅射真空室、磁控溅射靶材、样品台、工作气路、抽气系统、安装机和真空测量装置组成。高真空溅射可用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料。具有设备简单、易控制、涂布面积大、附着力强等优点,可用于大专院校和科研院所的薄膜材料的研究和制备。直流等离子磁控溅射镀膜仪溅射镀膜的原理是异常辉光放电中的稀有气体产...

  • 2022

    5-10

    采用新型保温材料的箱式炉具有体积小、重量轻、保温效果好、升温速度快等优点。面板材质为不锈钢;外形美观,操作简单,维护方便,炉后设有可控烟囱;适用于煤、焦化产品和化工原料的化学分析。五面加热(左、右、前、后、下)可获得均匀的温度场。1、双热电偶双仪表控温检测,确保不发生超温实验事故。2、炉膛材料采用高纯氧化铝纤维(表面涂有美国进口高温氧化铝涂层,可提高加热效率、反射率、炉膛清洁度,延长使用寿命)。3、采用双层壳体结构和风冷系统,使壳体表面温度低于60℃。4、炉体顶部有排气孔,可...

  • 2022

    4-22

    等离子清洗机广泛应用于等离子清洗、蚀刻、等离子电镀、等离子镀膜、等离子灰化和表面改性。通过它的处理,可以提高材料表面的润湿性,从而可以对多种材料进行涂层、电镀等操作,增强附着力和结合力,同时去除有机污染物、油或油脂。等离子清洗装置包括四个主要部件:激发电源、真空泵、真空室和反应气源。激励源是为气体放电提供能量的电源,可以采用不同的频率;真空泵的主要作用是去除副产品,包括旋片机械泵或增压泵;以及在真空室中进行放电电离的电极。反应气体转化为等离子体。反应气体通常为氩气、氧气、氢气...

  • 2022

    4-14

    涂覆机的使用和维护能否稳定可靠地运行已经成为设备维护人员关注的焦点,涂覆机的清洗也受到用户的关注。涂覆机的清洗方法主要有三种:一、传统的清洗方法。用二氯甲烷、DMF等挥发性溶剂清洗混合头。这种方法清洗*,成本低,但最大的问题是污染环境。因为是化学品,挥发性,有毒,不可回收,违背了现在提倡的绿色环保趋势,所以使用有限,逐渐不被市场接受,慢慢淘汰。二、高压水清洗。虽然这种方法无毒、成本低、操作简单,但行业内普遍存在清洗不*的问题;同时,高压水清洗会浪费水资源,产生大量工业废水,不...

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