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多功能试样表面处理机制膜时可以设置三种模式

更新时间:2022-07-14      点击次数:721
  多功能试样表面处理机是一种用于扫描电镜和电子探针的样品制备设备,可用于真空碳蒸镀、真空镀膜和离子溅射,在高纯氩气保护下也可用于各种离子处理。本设备处理后的样品既可用于样品的外观观察,也可用于成分分析,尤其是成分的定量分析。本仪器配备机械泵和分子泵,分子泵系统特别适用于对真空度要求高、真空环境好的用户。
  
  多功能试样表面处理机将硅片放入真空反应系统,通入少量氧气,加1500V高压,高频信号发生器产生高频信号,从而形成强电磁场石英管中,氧气被电离,形成由氧离子、活性氧原子、氧分子和电子混合而成的等离子体辉光柱。活性氧(活性原子氧)能迅速将聚酰亚胺薄膜氧化成挥发性气体,通过机械泵抽走,从而去除硅片上的聚酰亚胺薄膜。等离子脱胶的优点是脱胶操作简单,脱胶效率高,表面清洁光滑,无划痕,成本低,环保。
  
  在并联电极反应器中,反应离子刻蚀室采用非对称设计,阴极面积小,阳极面积大,被蚀刻物放置在面积较小的电极上。在射频电源产生的热运动下,带负电的自由电子质量小,运动速度快,迅速到达阴极;正离子由于质量大,速度慢,不能同时到达阴极,从而在阴极附近形成带负电的鞘层。在鞘层的加速作用下,正离子垂直轰击硅表面,加速硅表面的化学反应和反应产物的分离,产生很高的刻蚀速率。离子轰击也可以实现各向异性刻蚀,与等离子脱脂、等离子刻蚀相同,区别在于反应气体的种类和等离子体的激发方式。
  
  对于制膜,多功能试样表面处理机可以设置三种模式:
  
  1、一种模式专门用于蒸镀
  
  本仪器可同时蒸发两种物料,最高温度可达1800℃
  
  钨丝加热
  
  2、碳蒸发镀膜方式
  
  该仪器包括两组碳棒
  
  3、DC等离子溅射模式仪器含金靶(38mmdiax0.2mmt)

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