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等离子溅射仪工艺及技术

更新时间:2021-06-07      点击次数:1079
  溅射沉膜技术是以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击固体表面,使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。
  溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时,被刻蚀的材料置于靶极位置,受氩离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时,应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体,使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体,通过真空系统从溅射室中排出。
  VTC-16-3HD是一款紧凑型CE认证的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),基片Z大尺寸2英寸,加热温度为500度和控制面板为触摸屏模式。它可以溅射三种类型的靶材和放置样品的直径是50mm . 旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料,金靶,银,铜, 它可以与真空泵,不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍相连用.
  1.加热样品台
  (1)一个外径50 mm 的样品台, 可以移动三个位置
  (2)基片可以放在样品台上. 加热温度 500°C
  (3)PID控温方式和触摸屏面板,控温精度+/-10°C
  (4)zui长溅射时间不可超过5分钟
  2.控制面板
  (1)控制面板为PLC,4.3" 触摸屏
  (2)一个控制面板可以控制所有的参数,包括真空度 , 电流 , 靶材位置 和 基片加热温度
  3.可选
  (1)KF25 真空接口、卡箍,和600mm长不锈钢波纹管
  (2)120L/M旋片式真空泵(包含在仪器内)
    (3)不锈钢波纹管与KF-25真空接口相连接
  (4)各种高纯度金属靶
  (5)需要一个带压力调节器的氩气瓶 (这个我们不提供)
  进气口
  一个精密可调针阀安装在进气口,以实现方便的调节进气量

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