高真空蒸发镀膜仪采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源上覆盖有高纯氧化铝坩埚，样品台与蒸发源之间的距离可调。该仪器具有高精度的温度控制系统，并采用循环加热的方法来稳定地蒸发金属和某些有机物质。高纯度石英腔用作真空腔，涂层过程*可见。该仪器配有双极旋转叶片真空泵，可以快速达到1.0E-1Pa的真空度，可以满足大多数蒸发镀膜实验所需的真空环境。它适用于大多数金属和某些有机材料薄膜的蒸发和涂层，结构紧凑，体积小巧，是一种经济高效的实验室镀膜设备。
1、电流和电压检测器以及先进的反馈控制技术使镀碳过程稳定，高效。
2、脉冲和连续模式可以随意切换。
3、提供“手动”和“自动”两种模式。在“手动”模式下，可以调节电压和时间旋钮，以控制碳电镀过程。在“自动”模式下，客户只需要事先设置程序，碳镀层仪器将*按照您的指示执行。
高真空蒸发镀膜仪真空镀膜是将固体材料放置在真空室内的方法。在真空条件下，将固体材料加热以蒸发，并且蒸发的原子或分子可以在容器壁上自由散布。当将一些经过处理的基板材料放入其中时，蒸发的原子或分子将被吸附在基板上并逐渐形成薄膜。真空镀膜有两种方法，一种是蒸发，另一种是溅射。用于制造薄膜的材料在真空中加热和蒸发，以将其沉积在合适的表面上。
选择高真空蒸发镀膜仪的蒸发源的原理为：
1、具有良好的热稳定性，且无化学活性。当达到蒸发温度时，加热器本身的蒸气压必须足够低。
2、蒸发源的熔点高于被蒸发物质的蒸发温度。加热器必须具有足够的热容量。
3、蒸发材料和蒸发源材料的相互熔化必须非常低，并且不易形成合金。
4、用于螺旋形蒸发源的材料需要与蒸发材料具有良好的渗透性并且具有大的表面张力。
5、当不易制成细丝时，或当蒸发材料与细丝蒸发源之间的表面张力较小时，可以使用船形蒸发源。
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