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高真空蒸发镀膜仪可为薄膜应用提供理想涂层平台

更新时间:2021-02-23      点击次数:1065
  高真空蒸发镀膜仪可以为薄膜应用和其他材料提供理想的涂层平台,特别适用于场发射电子显微镜,透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备。是全自动程序控制,彩色触摸屏界面,操作简单,可以镀金铂和其他非氧化的贵金属和其他易氧化膜材料的细颗粒。
  高真空蒸发镀膜仪是具有灵活性和模块化可扩展性的多功能系统,可以适应不同的样品制备。它可用于蒸发蒸笼和坩埚中的碳和金属,以及可选的溅射附件蒸发。可以应用一系列行之有效的技术,包括碳涂层和TEM涂层,碳/金属蒸发,使用双源蒸发的低角度涂层和顺序涂层,以及可选的溅射镀膜附件可以应用于多种目标。其设计使其操作更容易实现。
  1、使用微处理器控制器可以增强系统的灵活性,并且用户可以轻松添加各种选项。但是,这些“默认”操作已经过优化,因此可以实现自动和手动操作。
  2、*的抽屉式样品装载系统便于用户放入各种样品,而铰接式顶盖结构易于到达系统的其他区域。
  3、涡轮分子泵安装在系统外部,可以轻松安装和更换高真空蒸发镀膜仪。它的前真空是旋转真空泵。整个泵送过程是*自动化的,在达到高真空后会蒸发。该仪器是台式机,使用中的疏忽易于控制且易于损坏。

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