高真空蒸发镀膜仪可为薄膜应用提供理想涂层平台

　　高真空蒸发镀膜仪可以为薄膜应用和其他材料提供理想的涂层平台,特别适用于场发射电子显微镜，透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备。是全自动程序控制，彩色触摸屏界面，操作简单，可以镀金铂和其他非氧化的贵金属和其他易氧化膜材料的细颗粒。

　　高真空蒸发镀膜仪是具有灵活性和模块化可扩展性的多功能系统，可以适应不同的样品制备。它可用于蒸发蒸笼和坩埚中的碳和金属，以及可选的溅射附件蒸发。可以应用一系列行之有效的技术，包括碳涂层和TEM涂层，碳/金属蒸发，使用双源蒸发的低角度涂层和顺序涂层，以及可选的溅射镀膜附件可以应用于多种目标。其设计使其操作更容易实现。

　　1、使用微处理器控制器可以增强系统的灵活性，并且用户可以轻松添加各种选项。但是，这些“默认”操作已经过优化，因此可以实现自动和手动操作。

　　2、*的抽屉式样品装载系统便于用户放入各种样品，而铰接式顶盖结构易于到达系统的其他区域。

　　3、涡轮分子泵安装在系统外部，可以轻松安装和更换高真空蒸发镀膜仪。它的前真空是旋转真空泵。整个泵送过程是*自动化的，在达到高真空后会蒸发。该仪器是台式机，使用中的疏忽易于控制且易于损坏。