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高真空蒸发镀膜仪的设计让其操作更容易实现

更新时间:2020-09-17      点击次数:946
  高真空蒸发镀膜仪是全自动程序控制,彩色触摸屏界面,操作简单,它可以镀金(AU),铂(PT)和其他非氧化的贵金属,也可以镀铱(IR),铬(CR),铝(AL)和其他易氧化膜材料的细颗粒。它特别适用于场发射电子显微镜,透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备,还可以为薄膜应用和其他材料领域提供理想的涂层平台。
  高真空蒸发镀膜仪是一种多功能系统,具有灵活性和模块化扩展性,可适应不同的样品制备,它可用于从蒸笼和坩埚以及可选的溅射附件进行碳蒸发和金属蒸发。可以应用一系列行之有效的技术,包括碳镀层和TEM覆层,碳/金属蒸发,低角度和使用双源蒸发的顺序涂层,可选的溅射镀膜附件可应用于多种目标。它的设计让其操作更容易实现。
  1、通过使用微处理器控制器增强了系统的灵活性,用户可以轻松添加各种选项。但是,这些“默认”操作已得到优化,因此自动和手动操作都可以实现操作。
  2、*的抽屉式样品装载系统,方便用户放入各种样品,铰链顶盖结构易于触及系统的其他区域。
  3、涡轮分子泵安装在系统外部,高真空蒸发镀膜仪可以轻松安装和更换。它的前真空是旋转真空泵。整个泵送过程是全自动控制的,达到高真空后会蒸发。该仪器是台式的,使用中的疏忽很容易控制并且容易损坏。
 

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