双温区管式炉设备结构的设计

　　双温区管式炉指的是有两个加热区，两个温区可以独立控制，设置不同的温度。硅钼棒建议放在高温区，其zui高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。

 

　　两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜，双温区管式炉的升降速率快，是各大高校，研究院，工矿企业做高温气氛烧结，气氛还原，CVD实验，真空退火的理想设备。
 

　　双温区管式炉是国家标准节能型周期式作业炉，超节能结构，采用先进的复合炉衬结构，节电30%-40%适用于精密铸造行业和模壳加热，效率高，比燃油、燃煤成本大大降低。双温区管式炉热工材料选用高品质节能型轻质泡沫砖和保温制品砌筑而成。管式炉温度调节方便、安全，只要调节功能按钮，即可实现温度控制，免去了燃油炉调节油咀的麻烦。双温区管式炉具有控温稳定，性能*。能耗较低。炉膛洁净等优点，*解决了您的环保压力。双温区管式炉结构
 

　　双温区管式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构,智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；内置两个温区，可以营造不同的温度梯度。双层炉壳间配有风冷系统，有效降低炉壳表面温度；结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。SKGL-1200-Ⅱ双温区管式炉用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。